本文標(biāo)題："濺射技術(shù)主要用來形成電阻和電容的鉭膜淀積"

發(fā)布者：YIYI ------ 分類: 站內(nèi)動(dòng)態(tài) ------ 人瀏覽過 -----時(shí)間：2015-9-27 18:19:53

濺射技術(shù)主要用來形成電阻和電容的鉭膜淀積

    任何襯底使用以前必須進(jìn)行清洗，以去除各種妨礙金屬鍍膜
直接與襯底接觸的污染物。值得注意的污染有兩類:一類是粒狀
物質(zhì)，它附著在襯底表面，使金屬鍍膜產(chǎn)生針孔;另一類是大面積
有機(jī)污染，造成整個(gè)附著力下降和金屬鍍膜不純。
    金屬淀積 金屬淀積技術(shù)主要有三種:電鍍、蒸發(fā)和濺射。根
據(jù)各自的特點(diǎn)而用于不同的場(chǎng)合。電鍍用于要求大面積和金屬層
較厚的場(chǎng)合。但是電鍍表面很難做到?jīng)]有缺陷，而且鍍層結(jié)構(gòu)對(duì)電
鍍?nèi)軇┖臀廴臼置舾?。蒸發(fā)技術(shù)用于金屬薄層淀積和某些絕緣
體的淀積。耐熔金屬很難用這種方法淀積，即使用電子槍蒸發(fā)也
是如此。某些金屬難以采用蒸發(fā)工藝是由“散濺作用”造成的，例
如，蒸發(fā)到表面上的金屬粒子會(huì)被彈射出來。濺射技術(shù)可用于耐
熔金屬和絕緣體的淀積。一般說來，濺射層的附著情況是好的，
其缺點(diǎn)是淀積速度較慢。
    濺射 當(dāng)材料表面受到高能粒子(通常是正離子)的轟擊所發(fā)
射的原字淀積在附近的固體上，這一過程稱為濺射。將強(qiáng)電場(chǎng)加
在淀積箱里的低壓氣體上，使它產(chǎn)生輝光放電就能產(chǎn)生高能正離
子。
    薄膜工藝中，濺射技術(shù)主要用來形成電阻和電容的鉭膜淀積。
濺射氣體可選用氬氣，因?yàn)檫@種氣體對(duì)被淀積的材料十分穩(wěn)定、濺
射存活率高而且能以較低的成本獲得極高的純度。氬氣中摻入少
量氮?dú)饽茉黾訛R射膜的片電阻和穩(wěn)定性，因此，可用于電阻膜的制
作。
 

后一篇文章：如何有效利用光刻技術(shù)刻制襯底上的導(dǎo)體圖形 »
前一篇文章：« 復(fù)雜的電路設(shè)計(jì)交迭是薄膜電路互連圖形的總連接

tags:數(shù)碼顯微鏡,光學(xué)顯微鏡,生物顯微鏡,精密儀器,

濺射技術(shù)主要用來形成電阻和電容的鉭膜淀積,熒光顯微鏡現(xiàn)貨供應(yīng)

本頁地址：http://www.hn-baiduw.cn/wz/2152.html轉(zhuǎn)載注明
本站地址：http://www.hn-baiduw.cn/
http://www.xianweijing.org/