本文標題："光學技術將有可能達到相當于電子顯微鏡的解析度"
發布者：yiyi ------ 分類: 站內動態 ------ 人瀏覽過 -----時間：2013-3-29 17:38:10
自 1872 年 Abbe 提出繞射極限的概念以來，科學家們一直試圖突破這個障礙，
讓我們能看到更微觀的世界。
在 1980 年代隨著控制技術的進步而有近場光學顯微技術的發展，對奈米尺度的光學
特性研究有了重大的突破。但受限于以光纖尖端掃瞄成像的方式，只能觀察樣本表面。而后
在 90 年代中，提出 STED 的概念之后，到目前已經成功在遠場觀測下驗證了小于繞射極限一個數量級以上的解析度，
同時依據螢光分子的特性，設計出許多原理類似，手法不同的遠場奈米顯微技術。相信在不久的將來，
光學技術將有可能達到相當于電子顯微鏡的解析度，
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